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        200系列光刻機 —— TFT曝光


        SSB225

        SSB245

        SSB260

        SSB200系列投影光刻機采用先進的投影光刻機平臺技術,專用于AM-OLED和LCD顯示屏TFT電路制造,可應用于2.5代~6代的TFT顯示屏量產線。該系列設備具備高分辨率、高套刻精度等特性,支持6英寸掩模,顯著降低用戶使用成本。
           產品特征

        ● 高精度,分辨率可達1.5μm

        ● 支持小Mask,可用6英寸掩模實現12英寸屏幕制造

        ● 具備智能化校準及診斷功能,方便設備參數校調及用戶周期性維護

        ● 快速靈活的客制化服務

           主要技術參數

         型號

        分辨率

         套刻精度

         基板尺寸

        SSB225/10

        2μm L/S

        0.6μm

        370mm×470mm
        500mm×500mm

        SSB225/20

        1.5μm L/S

        0.5μm

        370mm×470mm
        500mm×500mm

         SSB245/10 2μm L/S 0.6μm 730mm×920mm
         SSB245/20 1.5μm L/S 0.5μm 730mm×920mm
         SSB260/10T 2μm L/S 0.6μm 1300mm×1500mm
        1500mm×1850mm
         SSB260/20T 1.5μm L/S 0.5μm 1300mm×1500mm
        1500mm×1850mm
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